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氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及...

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公司檔案
公司名稱: 公司類型: 企業(yè)單位 (制造商)
所 在 地: 青島市 公司規(guī)模: 1-49人
注冊資本: 300萬人民幣 注冊年份: 2016
資料認證:
經(jīng)營模式: 制造商
經(jīng)營范圍: 氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規(guī)模集成電路制造等領域?qū)M行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝,可用于2-8英寸工藝尺寸.LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大,故可采用密集裝片方式來提高生產(chǎn)率。 真空擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、大規(guī)模集成電路制造等領域?qū)M行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝,可用于2-8英寸工藝尺寸。
銷售的產(chǎn)品: 氧化擴散爐,真空擴散爐,氫氣燒結(jié)爐,氫氧點火爐,半導體用真空燒結(jié)爐
采購的產(chǎn)品: 氧化擴散爐,真空擴散爐,氫氣燒結(jié)爐,氫氧點火爐,半導體用真空燒結(jié)爐
主營行業(yè):
其它加工機械
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